Czyszczenie części elementów o wysokiej czystości

    Urządzenia produkcyjne dla przemysłu półprzewodnikowego (np. technologia EUV i DUV), precyzyjne elementy optyczne, takie jak soczewki, zwierciadła i pryzmaty, rozwiązania technologii próżniowej (UHV, XHV, UCV) dla nauki, badań i przemysłu, systemy laserowe dużej mocy, aplikacje cienkowarstwowe lub technologia medyczna stawiają niezwykle wysokie wymagania dotyczące czystości stosowanych komponentów. Na porządku dziennym są tu specyfikacje dotyczące czystości cząstek ultra drobnych aż do zakresu nanometrów, a także najsurowsze specyfikacje dotyczące zanieczyszczeń błonowych, szybkości odgazowywania substancji organicznych i cieczy. W przypadku analizy powierzchni pod kątem pozostałości substancji nieorganicznych dopuszczalne są wartości rzędu atomowych procentów, w zależności od komponentu. Dla tych zadań w przemyśle high-tech Ecoclean opracowuje i produkuje rozwiązania czyszczące, które są optymalnie dostosowane do danego zastosowania. Zapewniają one osiągnięcie wymaganych poziomów czystości w sposób stabilny, trwały i efektywny.

    Dowiedz się więcej o naszym nowym centrum testowym wysokiej czystości


    Technologie czyszczenia dla zastosowań o wysokiej czystości

    Jako globalny dostawca kompleksowych usług, Ecoclean obejmuje całe spektrum czyszczenia komponentów przemysłowych. Portfolio obejmuje również rozwiązania do wodnej obróbki powierzchni i automatyzacji dostosowanej do potrzeb klienta. Dostosowane do specyficznych wymagań i zastosowań (czyszczenie pośrednie lub końcowe lub czyszczenie według klasy 4 do 1, materiał, geometria komponentów, zanieczyszczenia i specyfikacje czystości, a także środowisko produkcyjne) w różnych sektorach przemysłu high-tech, różne koncepcje systemowe są dostępne do czyszczenia partii i pojedynczych komponentów za pomocą mediów na bazie wody i rozpuszczalników przyjaznych dla środowiska. Technologie procesowe opracowane dla zastosowań wymagających wysokiej czystości, takie jak ultradźwięki Plus lub czyszczenie pod ciśnieniem pulsacyjnym (PPC), plazma, suszenie i systemy przygotowania mediów, zapewniają stabilne wyniki czyszczenia w przypadku najbardziej wymagających wymagań. Przyczynia się do tego również konstrukcja i wyposażenie systemów, takie jak specjalnie dostosowane materiały i technologie przetwarzania, które są dostosowane do bardzo wysokich wymagań czystości.

    Kompleksowe know-how dla zastosowań o wysokiej czystości

    Aby w sposób zorientowany na wymagania, zrównoważony i efektywny rozwiązywać bardzo zróżnicowane zadania w branżach zaawansowanych technologicznie, takich jak produkcja urządzeń do wytwarzania półprzewodników, optyki precyzyjnej, elementów próżniowych, wysokowydajnych systemów pomiarowych i analitycznych, laserów o ultrakrótkiej długości fali oraz technologii cienkowarstwowej, z jednej strony potrzebna jest wszechstronna wiedza technologiczna. Z drugiej strony wymaga to wiedzy na temat zastosowań i wzajemnych powiązań fizycznych. Dzięki naszemu wieloletniemu doświadczeniu w oczyszczaniu ultradrobnoziarnistym oraz licznym zrealizowanym projektom na całym świecie posiadamy obie te umiejętności. To, w połączeniu z bogatym wyposażeniem naszych Centrów Technologii Wysokiej Czystości, w tym pomieszczeń czystych i urządzeń testowych, umożliwia nam przeprowadzanie prób czyszczenia z oryginalnie zabrudzonymi częściami w warunkach zbliżonych do produkcyjnych dla każdego zadania czyszczenia. Te analizy wykonalności umożliwiają nam projektowanie elastycznych, optymalnych pod względem technicznym i ekonomicznym oraz zrównoważonych procesów i rozwiązań w zakresie czyszczenia, w oparciu o wymagania dotyczące materiału, geometrii elementów, zanieczyszczenia, czystości i przepustowości - w tym automatyzację, walidację pojemnika do czyszczenia i/lub pomieszczenia czystego na życzenie klienta. Dotyczy to również stale rosnącej liczby elementów, które obecnie nadal są czyszczone ręcznie.

    clear
    Downloadform pdf pl